- 专利标题: 一种硅基GaN HEMT晶体管栅电流参数提取方法
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申请号: CN202010461418.8申请日: 2020-05-27
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公开(公告)号: CN113745123A公开(公告)日: 2021-12-03
- 发明人: 何进 , 何箫梦 , 魏益群 , 李春来 , 胡国庆
- 申请人: 深港产学研基地(北京大学香港科技大学深圳研修院)
- 申请人地址: 广东省深圳市南山区高新技术产业园南区科苑南路高新七道15号
- 专利权人: 深港产学研基地(北京大学香港科技大学深圳研修院)
- 当前专利权人: 深港产学研基地(北京大学香港科技大学深圳研修院)
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市南山区高新技术产业园南区科苑南路高新七道15号
- 代理机构: 南昌丰择知识产权代理事务所
- 代理商 刘小平
- 主分类号: H01L21/66
- IPC分类号: H01L21/66 ; G06F30/337
摘要:
本发明涉及一种硅基GaN HEMT晶体管栅电流参数提取方法,包括以下步骤:测试出GaN HEMT场效应晶体管的栅电流特性曲线;将硅基GaN HEMT器件测试得出的栅电流特性曲线与两个对数差分函数分别相减,得到截距以及两个不同斜率因子;将硅基GaN HEMT器件测试得出的栅电流特性曲线与任意一个对数差分函数相减,得到具有极值的差分函数谱曲线;在任意差分函数谱曲线上,获取二个极值点的栅电流极值;将获得的二个栅电流极值代入提取公式,可以提取得到一次栅电流的关键参数值;将两个对数差分函数谱提取的栅电流的关键参数值求平均值,得到栅电流关键参数值,这种方法简单、适用性强、误差小,能抑制小尺寸引起的器件短沟效应和非本征效应。
公开/授权文献
- CN113745123B 一种硅基GaN HEMT晶体管栅电流参数提取方法 公开/授权日:2024-06-25
IPC分类: