本发明公开了一种反射式磁控溅射镀膜厚度监测装置、镀膜机、监测方法及镀膜方法，包括监测片，以及安装在镀膜机门板上的反射率测量机构，所述镀膜机门板上设置有供所述反射率测量机构测量所述监测片的反射率的测量孔。通过设计监测片，在单层镀膜完成后对该监测片进行反射率光谱测量，得到该层镀膜实际厚度，从而可以及时地在单层镀膜完成后进行补镀或后续镀层优化，从而实现镀膜过程中的膜层优化和改善，有效提高镀膜的稳定性，降低废品率，提高镀膜质量。