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公开(公告)号:CN113755806A
公开(公告)日:2021-12-07
申请号:CN202111059182.6
申请日:2021-09-10
申请人: 四川旭虹光电科技有限公司 , 东旭光电科技股份有限公司
摘要: 本发明公开了一种反射式磁控溅射镀膜厚度监测装置、镀膜机、监测方法及镀膜方法,包括监测片,以及安装在镀膜机门板上的反射率测量机构,所述镀膜机门板上设置有供所述反射率测量机构测量所述监测片的反射率的测量孔。通过设计监测片,在单层镀膜完成后对该监测片进行反射率光谱测量,得到该层镀膜实际厚度,从而可以及时地在单层镀膜完成后进行补镀或后续镀层优化,从而实现镀膜过程中的膜层优化和改善,有效提高镀膜的稳定性,降低废品率,提高镀膜质量。
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公开(公告)号:CN215551740U
公开(公告)日:2022-01-18
申请号:CN202121838526.9
申请日:2021-08-06
申请人: 四川旭虹光电科技有限公司 , 东旭科技集团有限公司
IPC分类号: B32B43/00
摘要: 本实用新型属于玻璃覆膜处理设备,公开了一种撕膜设备,包括撕膜仓(1)以及与所述撕膜仓(1)连接的抽真空装置(2),所述撕膜仓(1)内设置有滚筒(3)和回收杆(4),所述滚筒(3)和所述回收杆(4)并排设置,且所述回收杆(4)上连接有用于驱动所述回收杆(4)转动的驱动装置(5),所述滚筒(3)可转动地连接在所述撕膜仓(1)的内壁上。本实用新型的撕膜设备能够降低在撕膜过程中外界环境的影响,从而改善镀膜效果。
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