- 专利标题: 一种具有n+调整区的双模式GCT及其制备方法
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申请号: CN202110914107.7申请日: 2021-08-10
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公开(公告)号: CN113809166A公开(公告)日: 2021-12-17
- 发明人: 王彩琳 , 杨武华 , 罗琳 , 张如亮 , 张超
- 申请人: 西安理工大学
- 申请人地址: 陕西省西安市碑林区金花南路5号
- 专利权人: 西安理工大学
- 当前专利权人: 西安理工大学
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市碑林区金花南路5号
- 代理机构: 西安弘理专利事务所
- 代理商 王奇
- 主分类号: H01L29/74
- IPC分类号: H01L29/74 ; H01L29/06 ; H01L21/332
摘要:
本发明公开了一种具有n+调整区的双模式GCT,其特征在于:整个器件表面所有GCT单元和PIN二极管单元呈指条状按同心环排列均匀地分布在芯片上表面,并且GCT单元和PIN二极管单元按3﹕1的比例交叉分布,所述PIN二极管单元的p阳极区上表面中间位置设置有一个条形或多个圆形的n+调整区,p阳极区与两侧相邻GCT单元的p基区之间均采用pnp隔离区实现有效隔离。本发明还公开了上述具有n+调整区的双模式GCT的制备方法。本发明的BGCT不仅省去了对PIN二极管进行横向局部载流子寿命控制工艺,降低了工艺难度和成本,而且可以有效改善PIN二极管恢复速度和软度,抑制动态雪崩的发生,确保器件换向的可靠性。
公开/授权文献
- CN113809166B 一种具有n+调整区的双模式GCT及其制备方法 公开/授权日:2024-05-14
IPC分类: