Invention Publication
- Patent Title: 用于蚀刻含氮化硅衬底的组合物及方法
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Application No.: CN202111106203.5Application Date: 2018-09-06
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Publication No.: CN113817471APublication Date: 2021-12-21
- Inventor: E·库珀 , S·比洛迪奥 , 戴雯华 , 杨闵杰 , 涂胜宏 , 吴幸臻 , 金西恩 , 洪性辰
- Applicant: 恩特格里斯公司
- Applicant Address: 美国马萨诸塞州
- Assignee: 恩特格里斯公司
- Current Assignee: 恩特格里斯公司
- Current Assignee Address: 美国马萨诸塞州
- Agency: 北京律盟知识产权代理有限责任公司
- Agent 李婷
- Priority: 62/554,772 20170906 US
- Main IPC: C09K13/06
- IPC: C09K13/06 ; C09K13/08 ; H01L21/311
Abstract:
本申请涉及用于蚀刻含氮化硅衬底的组合物及方法；所述组合物包含磷酸、六氟硅酸及氨基烷氧基硅烷及任选地一或多种额外任选的成分；使用如所描述的组合物进行的包含氮化硅及氧化硅的衬底的湿式蚀刻方法可实现适用或改进的氮化硅蚀刻速率、适用或改进的氮化硅选择性、这些功能的组合以及任选地在蚀刻之后存在于衬底表面处的颗粒的减少。
Public/Granted literature
- CN113817471B 用于蚀刻含氮化硅衬底的组合物及方法 Public/Granted day:2022-11-15
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