发明公开
- 专利标题: 一种AlGaInN发光二极管的接触结构
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申请号: CN202111158607.9申请日: 2021-09-30
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公开(公告)号: CN113921677A公开(公告)日: 2022-01-11
- 发明人: 吴小明 , 莫春兰 , 陈芳 , 王立 , 李新华 , 蒋恺
- 申请人: 南昌大学 , 南昌硅基半导体科技有限公司
- 申请人地址: 江西省南昌市红谷滩新区学府大道999号;
- 专利权人: 南昌大学,南昌硅基半导体科技有限公司
- 当前专利权人: 南昌大学,南昌硅基半导体科技有限公司
- 当前专利权人地址: 江西省南昌市红谷滩新区学府大道999号;
- 代理机构: 江西省专利事务所
- 代理商 张文
- 主分类号: H01L33/40
- IPC分类号: H01L33/40 ; H01L33/36
摘要:
本发明公开了一种AlGaInN发光二极管的接触结构,包括AlGaInN接触层,第一接触层和第二接触层;第二接触层越过第一接触层与AlGaInN接触层接触;第一接触层位于AlGaInN接触层和第二接触层之间;第一接触层至少与AlGaInN接触层和第二接触层的一个是肖特基接触或者绝缘。本发明通过改变第一接触层面积,调节AlGaInN接触层与第二接触层的在各处的接触面积和电阻,在保证电流在第二接触层上传输的前提下,分配AlGaInN接触层和器件各处所获得的电流比例。
IPC分类: