光致抗蚀剂组合物及图案形成方法
摘要:
一种光致抗蚀剂组合物,其包含:第一聚合物,所述第一聚合物含有包含羟基‑芳基的第一重复单元和包含酸不稳定基团的第二重复单元;第二聚合物,所述第二聚合物含有包含酸不稳定基团的第一重复单元、包含内酯基团的第二重复单元、和包含碱可溶解的基团的第三重复单元,其中,所述碱可溶解的基团具有小于或等于12的pKa,并且其中所述碱可溶解的基团不包含羟基取代的芳基;光酸产生剂;和溶剂;其中所述第一聚合物和所述第二聚合物彼此不同。
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