发明公开
- 专利标题: 一种制备抗硫化厚膜晶片电阻的方法
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申请号: CN202111247237.6申请日: 2021-10-26
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公开(公告)号: CN113972045A公开(公告)日: 2022-01-25
- 发明人: 贾碧溪 , 帅晓晴 , 田空圣 , 朱其乐 , 李国武 , 洪志斌
- 申请人: 江西昶龙科技有限公司
- 申请人地址: 江西省九江市柴桑区沙城工业园(九江庆辉实业有限公司内)
- 专利权人: 江西昶龙科技有限公司
- 当前专利权人: 江西昶龙科技有限公司
- 当前专利权人地址: 江西省九江市柴桑区沙城工业园(九江庆辉实业有限公司内)
- 代理机构: 南昌中擎知识产权代理事务所
- 代理商 陈海涛
- 主分类号: H01C17/06
- IPC分类号: H01C17/06
摘要:
本发明公开了一种制备抗硫化厚膜晶片电阻的方法,涉及厚膜晶片电阻领域,方法具体为:预先在绝缘板上涂覆一层三防漆,制得基板,将抗硫化导电浆料和电阻浆料通过掩膜涂覆在基板上,再经烧结在基板上形成电极层和电阻层,继续在电极层和电阻层之间涂覆保护涂料,干燥形成包覆层,制得晶片电阻;所述保护涂料包括以质量份数计的原料:灌封硅胶40‑89份、改性导热填料5‑20份和阻燃剂1‑20份;所述改性导热填料为小粒径导热填料与大粒径导热填料组成。本发明通过预先在绝缘板上涂覆一层三防漆,能够防止在高温高湿、电场力的作用下的银迁移,避免线路之间短路。
公开/授权文献
- CN113972045B 一种制备抗硫化厚膜晶片电阻的方法 公开/授权日:2023-11-03