Invention Publication
- Patent Title: 一种阵列基板及其制备方法
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Application No.: CN202111277686.5Application Date: 2021-10-29
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Publication No.: CN114005842APublication Date: 2022-02-01
- Inventor: 王贤娜 , 张甜 , 徐竹青
- Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 南京京东方显示技术有限公司
- Applicant Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,南京京东方显示技术有限公司
- Current Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,南京京东方显示技术有限公司
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- Agency: 北京润泽恒知识产权代理有限公司
- Agent 李娜
- Main IPC: H01L27/12
- IPC: H01L27/12 ; H01L21/77 ; G02F1/1362

Abstract:
本申请实施例提供一种阵列基板及其制备方法,包括衬底;电极层,包括互不相连的第一电极部和第二电极部;栅极,设置在第一电极部远离衬底的一侧;栅极、第一电极部和第二电极部被配置为通过对同一金属氧化物半导体层采用同一半色调掩模板同时形成;第一电极部与栅极的图案重合,第一电极部位于衬底和栅极之间;栅极绝缘层,位于栅极上;金属氧化物层,设置在栅极绝缘层上,金属氧化物层包括导体部、第三电极部和第一半导体部;第三电极部和导体部被配置为采用导体化工艺同时形成。通过本申请实施例提供的一种阵列基板及其制备方法,可以降低阵列基板的成本,提高阵列基板的制造效率。
Public/Granted literature
- CN114005842B 一种阵列基板及其制备方法 Public/Granted day:2024-12-31
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IPC分类: