发明公开
- 专利标题： 用于量测应用中的光源和方法
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申请号： CN202080047978.7申请日： 2020-07-06
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公开(公告)号： CN114041082A公开(公告)日： 2022-02-11
- 发明人: H·萨贝特 , 帕特里克·塞巴斯蒂安·于贝尔
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 张启程
- 优先权： 19187242.3 20190719 EP
- 国际申请： PCT/EP2020/069007 2020.07.06
- 国际公布： WO2021/013521 EN 2021.01.28
- 进入国家日期： 2021-12-29
- 主分类号： G02F1/0147
- IPC分类号： G02F1/0147 ; G03F7/00 ; G02F1/383
摘要：
公开了一种用于提供光源的系统和方法。在一种布置中，所述光源包括：中空且具有轴向方向的光纤；填充所述光纤的中空部的气体；和设置在沿所述光纤的所述轴向方向的相应位置处的多个温度设定装置，其中所述温度设定装置被配置成控制所述气体的温度，以局部地控制所述气体的密度。
公开/授权文献
- CN114041082B 用于量测应用中的光源和方法 公开/授权日：2024-06-11
