Invention Publication
- Patent Title: 一种基于深度度量学习的EDA电路失效分析方法
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Application No.: CN202111036201.3Application Date: 2021-09-06
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Publication No.: CN114139482APublication Date: 2022-03-04
- Inventor: 张立军 , 严雨灵 , 马利军 , 张重达 , 娄圆
- Applicant: 苏州宽温电子科技有限公司
- Applicant Address: 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城1幢606-4室
- Assignee: 苏州宽温电子科技有限公司
- Current Assignee: 苏州宽温电子科技有限公司
- Current Assignee Address: 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城1幢606-4室
- Agency: 苏州吴韵知识产权代理事务所
- Agent 王铭陆
- Main IPC: G06F30/367
- IPC: G06F30/367 ; G06K9/62 ; G06N3/04 ; G06N3/08

Abstract:
本发明公开了一种基于深度度量学习的EDA电路失效分析方法,包括步骤:一、根据原始分布对EDA电路样本进行蒙特卡罗采样,生成蒙特卡罗采样样本,并进行蒙特卡罗仿真,得到失效仿真结果;二、通过步骤一的蒙特卡罗采样样本和失效仿真结果,训练一个能够将失效样本区分出来的深度度量学习模型;三、对待进行失效分析的EDA电路,采用蒙特卡罗采样方法生成足够多的失效分析样本,并利用步骤二中训练的深度度量学习模型对样本进行筛选,筛选出可能失效样本;四、对可能失效样本进行SPICE电路仿真,得到失效的EDA电路并计算出失效率。本发明仿真效率高,可靠性高,在先进工艺大规模电路的仿真分析中具有明显的优势。
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