发明公开
- 专利标题: 铝电解电容器用高压铝箔掩膜均匀腐蚀发孔的制造方法
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申请号: CN202111497046.5申请日: 2021-12-09
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公开(公告)号: CN114141540A公开(公告)日: 2022-03-04
- 发明人: 王建中 , 陆云龙
- 申请人: 南通海星电子股份有限公司 , 南通海一电子有限公司 , 宁夏海力电子有限公司
- 申请人地址: 江苏省南通市通州区平潮镇通扬南路518号; ;
- 专利权人: 南通海星电子股份有限公司,南通海一电子有限公司,宁夏海力电子有限公司
- 当前专利权人: 南通海星电子股份有限公司,南通海一电子有限公司,宁夏海力电子有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省南通市通州区平潮镇通扬南路518号; ;
- 代理机构: 南京正联知识产权代理有限公司
- 代理商 顾伯兴
- 主分类号: H01G9/045
- IPC分类号: H01G9/045
摘要:
本发明公开一种铝电解电容器用高压铝箔掩膜均匀腐蚀发孔的制造方法,属于铝电解电容器用高压铝箔制造技术领域,具体步骤包括:1)对铝箔光箔进行表面处理,提高光箔表面活性;2)预处理完成的铝箔进入液态掩膜剂槽内,在传动作用下铝箔从掩膜槽拉出,使所述掩膜剂在铝箔表面附着形成掩膜层;3)覆盖掩膜剂的铝箔经过干燥后表面形成掩膜干膜;4)通过使用预设好的图形在掩膜干膜面曝光形成均匀的圆孔形状;5)显影后露出均匀孔状的铝箔面;6)将完成显影的铝箔送入腐蚀槽,通过电化学腐蚀在铝箔正反表面形成均匀分布的腐蚀发孔。本发明制造方法能够有效地控制后期电腐蚀发孔的均匀分布,且易大面积加工,适合产线连续作业。
公开/授权文献
- CN114141540B 铝电解电容器用高压铝箔掩膜均匀腐蚀发孔的制造方法 公开/授权日:2023-12-22