发明公开
CN114141884A 可重构肖特基二极管
审中-实审
- 专利标题: 可重构肖特基二极管
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申请号: CN202111525672.0申请日: 2021-12-14
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公开(公告)号: CN114141884A公开(公告)日: 2022-03-04
- 发明人: 张增星 , 盛喆 , 余睿
- 申请人: 上海集成电路制造创新中心有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区碧波路690号401-23室
- 专利权人: 上海集成电路制造创新中心有限公司
- 当前专利权人: 上海集成电路制造创新中心有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区碧波路690号401-23室
- 代理机构: 上海恒锐佳知识产权代理事务所
- 代理商 黄海霞
- 主分类号: H01L29/872
- IPC分类号: H01L29/872 ; H01L29/45 ; H01L29/47 ; H01L29/06 ; H01L29/24
摘要:
本发明提供了一种可重构肖特基二极管,包括栅电极层、栅介质层、沟道层、源电极和漏电极,所述栅介质层设置于所述栅电极层的一面,所述沟道层设置于所述栅介质层背向所述栅电极层的一面,且为双极性半导体,栅极电压能够控制沟道层在P型和N型之间连续变化,所述源电极设置于所述沟道层背向所述栅介质层的一面,且与所述沟道层之间为肖特基接触,所述漏电极设置于所述沟道层背向所述栅介质层的一面,且与所述沟道层之间为欧姆接触,进而使得栅极电压能够控制沟道层表现出金属P型半导体肖特基二极管的整流特性和金属N型半导体肖特基二极管的整流特性,实现了所述可重构肖特基二极管的可重构性。
IPC分类: