- 专利标题: 阵列基板及其制备方法、显示面板和背光模组
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申请号: CN202010927603.1申请日: 2020-09-07
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公开(公告)号: CN114156395B公开(公告)日: 2024-07-30
- 发明人: 汪建国 , 刘松 , 齐琪 , 李永飞 , 曾亭 , 刘欢 , 卢鑫泓 , 董万如 , 桂和仁 , 杨健 , 胡海峰 , 江玉 , 徐鹏 , 储微微 , 高琪
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京律智知识产权代理有限公司
- 代理商 王辉; 阚梓瑄
- 主分类号: H01L33/62
- IPC分类号: H01L33/62 ; H01L33/48 ; H01L27/15
摘要:
本公开提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板和背光模组,属于显示技术领域。该阵列基板的制备方法包括提供一衬底基板;在衬底基板的一侧形成金属布线层;在金属布线层远离衬底基板的一侧形成第一平坦化层;在第一平坦化层远离衬底基板的一侧形成电极层,电极层包括依次层叠于衬底基板一侧的铜电极层、第一缓冲金属层和第一铜镍合金层;第一缓冲金属层的材料为钼、钼铌合金、钼钨合金、钼镍钛合金、钼镁铝合金中的一种或者多种的混合;在电极层远离衬底基板的一侧形成第二平坦化层;设置功能器件层;功能器件层设于第二平坦化层远离衬底基板的一侧,且包括多个与电极层电连接的功能器件。该阵列基板的制备方法能够提高阵列基板的品质。
公开/授权文献
- CN114156395A 阵列基板及其制备方法、显示面板和背光模组 公开/授权日:2022-03-08
IPC分类: