光致抗蚀剂组合物及图案形成方法

发明公开

摘要：

光致抗蚀剂组合物包含：第一聚合物，其包含含有羟基‑芳基基团的第一重复单元和含有酸不稳定基团的第二重复单元，其中，所述第一聚合物不包含内酯基团；第二聚合物，其包含含有羟基‑芳基基团的第一重复单元、含有酸不稳定基团的第二重复单元、和含有内酯基团的第三重复单元；光酸产生剂；以及溶剂。

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IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/004	.感光材料（G03F7/12，G03F7/14优先）