发明授权
- 专利标题: 微纳光栅表面粗糙度的无损检测方法
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申请号: CN202111621883.4申请日: 2021-12-28
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公开(公告)号: CN114264275B公开(公告)日: 2024-06-14
- 发明人: 杨金慧 , 吕学良 , 张洋 , 周游 , 李开宇 , 李自金 , 李庆 , 周东站 , 王乔 , 郑京明 , 褚淼 , 刘蕊 , 魏东萌
- 申请人: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区管庄东里1号
- 专利权人: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
- 当前专利权人: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区管庄东里1号
- 代理机构: 北京鼎佳达知识产权代理事务所
- 代理商 霍红艳; 刘铁生
- 主分类号: G01B21/30
- IPC分类号: G01B21/30
摘要:
本发明公开了一种微纳光栅表面粗糙度的无损检测方法,包括如下步骤:用去离子水、无水乙醇和异丙醇对微纳光栅进行超声清洗,氮气吹干将三甲基氯硅烷滴到表面皿中,与微纳光栅一同置于真空干燥环境下,使三甲基氯硅烷充分钝化微纳光栅的表面;将固化剂加入聚二甲基硅氧烷中,混合均匀,消泡,得到PDMS混合物;将PDMS混合物倒在表面皿中,再将微纳光栅置于PDMS混合物表面,将附着PDMS混合物的微纳光栅置于真空干燥环境中脱气、固化,得到凝固仍带有微纳光栅的硅胶膜;将该硅胶膜与微纳光栅进行脱模,用硅胶模进行粗糙度测试。本发明可实现对微纳光栅表面难以测量的侧壁、槽底、深孔等复杂结构进行采集和复制,为复杂的微纳结构表面粗糙度测试提供了新思路。
公开/授权文献
- CN114264275A 微纳光栅表面粗糙度的无损检测方法 公开/授权日:2022-04-01