发明公开
- 专利标题: 超硬纯同位素10BP半导体微纳米线的制备
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申请号: CN202111651342.6申请日: 2021-12-30
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公开(公告)号: CN114314505A公开(公告)日: 2022-04-12
- 发明人: 郑伟 , 陆雪芳 , 宋晓宇 , 黄丰
- 申请人: 中山大学
- 申请人地址: 广东省广州市海珠区新港西路135号
- 专利权人: 中山大学
- 当前专利权人: 中山大学
- 当前专利权人地址: 广东省广州市海珠区新港西路135号
- 代理机构: 深圳市创富知识产权代理有限公司
- 代理商 高冰
- 主分类号: B82B3/00
- IPC分类号: B82B3/00 ; B82Y40/00 ; H01L31/0352 ; H01L31/08
摘要:
本发明属于磷化硼材料制备技术领域,具体涉及超硬纯同位素10BP半导体微纳米线的制备,本发明利用VLS生长机制成功合成了超长超硬同位素纯10BP微纳米线,克服了硼的高熔点与磷的低升华温度之间的热力学矛盾。具体是以镍粉为催化剂,以富含红磷和同位素的10B粉为前驱体,合成得到超长超硬10BP微纳米线。与在较低温度下合成的超硬材料相比,10BP微纳米线表现出优异的性能,其长度达到1.1cm,硬度相当高,达到了40GPa的超硬阈值(41GPa)。此外,将10BP微纳米线集成到探测器中,器件表现出良好的光响应和压电特性,证明了该材料在光电、应变传感和固态半导体核辐射检测中的应用前景。