发明公开
- 专利标题: 阵列基板及其制作方法、以及显示装置
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申请号: CN202111661587.7申请日: 2021-12-30
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公开(公告)号: CN114335026A公开(公告)日: 2022-04-12
- 发明人: 孙少君 , 张亚娇 , 刘承俊 , 李海光 , 池彦菲 , 鲁俊祥 , 陈凡 , 俞洋 , 林祥栋 , 胡贵光 , 蔡继辉
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 福州京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,福州京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,福州京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京正理专利代理有限公司
- 代理商 李远思
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L21/77
摘要:
本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、以及显示装置,其中本发明一实施例的阵列基板包括显示区和非显示区,包括衬底和层叠设置在衬底上的源漏层、覆盖源漏层的保护层、以及设置在保护层上的电极层,源漏层包括源极和漏极,电极层包括像素电极;非显示区包括:与源极和漏极同层设置的第一信号线;贯通保护层的至少一个第一过孔,第一过孔包括第一孔区、以及设置在保护层远离源漏层一侧的并且围绕第一孔区的第一斜坡区,第一信号线在衬底上的正投影覆盖第一过孔在衬底上的正投影;以及与像素电极同层设置的导电部,导电部覆盖所述第一过孔。本发明提供的阵列基板通过设置第一过孔包括第一孔区和围绕第一孔区的第一斜坡区,避免导电部搭接不良。
IPC分类: