本发明公开了一种磁控溅射平面靶磁通装置，涉及磁控溅射镀膜设备领域。该装置包括壳体、矩形磁体结构与靶材，壳体的上表面开有设置靶材的窗口，靶材的两端通过压板压紧、且通过沉头螺栓固定；壳体内侧上表面与靶材的下表面平齐，靶材下方设置有隔板，隔板下方设置为平面靶材冷却水道，平面靶材冷却水道下方为矩形磁体结构，其通过L形的卡桩安装于壳体的内底面上，矩形磁体结构包括矩形的环状磁轭及底面的矩形磁轭，环状磁轭安装于矩形磁轭上，环状磁轭内按照海尔贝克的原理设置磁体阵列；磁体阵列的强磁性一面朝向靶材，弱磁性一面由矩形磁轭覆盖。本发明提高磁控溅射平面靶材溅射的均匀性，提高了靶材利用率，提升了生产效率，降低了生产成本。