发明公开
- 专利标题: 基片处理系统、液量测量方法和计算机可读存储介质
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申请号: CN202111325339.5申请日: 2021-11-10
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公开(公告)号: CN114509925A公开(公告)日: 2022-05-17
- 发明人: 桾本裕一朗 , 上山昇太 , 寺本聪宽 , 西山雄太 , 畠山真一
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 优先权: 2020-190281 20201116 JP
- 主分类号: G03F7/30
- IPC分类号: G03F7/30 ; H01L21/67
摘要:
本发明提供能够容易且简单地测量基片的处理中使用的处理液的释放量的基片处理系统、液量测量方法和计算机可读存储介质。基片处理系统包括:相对于载置台的载置部可拆装的测量单元;用于处理液的测量的测量治具;包含供给部的液处理单元,该供给部构成为能够对测量治具供给处理液;输送机构,其构成为能够在测量单元与液处理单元之间输送测量治具;和控制部。控制部执行以下处理:将测量单元内的测量治具从测量单元输送到液处理单元的处理;从供给部向测量治具释放处理液的处理;将测量治具从液处理单元输送到测量单元的处理;和基于测量单元中的测量值计算处理液的释放量的处理。
IPC分类: