本发明公开了一种下垂罩板及带有该下垂罩板的PECVD设备，属于PECVD设备技术领域。本发明的下垂罩板，第一绝缘框设置在底板框上，第二绝缘框设置在第一绝缘框上；底板框由若干个底板连接形成，底板的下侧面设置有延伸部，延伸部与底板的下侧面相互垂直，第一绝缘框由若干个第一绝缘板拼合形成，第二绝缘框由若干个第二绝缘板拼合形成；底板的上侧面与第一绝缘板的下侧面之间，以及第一绝缘板的上侧面与第二绝缘板的下侧面之间，形成有若干个连通底板框内外两侧的条形孔，条形孔在底板框厚度方向上的高度为1‑20mm；本实施方式的下垂罩板能够极大程度地提高真空镀膜工艺的加工效率和良品率。