本公开涉及一种用于研磨机的玻璃基板研磨系统及研磨机，所述研磨系统包括工作台、研磨装置及控制模组，工作台用于固定玻璃基板，研磨装置为两组并包括轨道机构、可移动地设置在轨道机构上的安装座、以及设置在安装座上的研磨机构和检测机构，轨道机构用于驱动所述安装座沿第一方向移动，研磨机构的第一驱动组件用于驱动研磨头沿与第一方向垂直的第二方向移动，检测机构用于检测测量位与位于所述工作台上的研磨前后的玻璃基板的在第二方向上的研磨前后的距离，控制模组用于根据研磨前后的距离控制轨道机构和第一驱动组件调整研磨头在两个所述测量位之间移动时的轨迹，通过上述技术方案，本公开能够精确控制研磨量，保证研磨后玻璃基板的品质。