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公开(公告)号：CN119501835A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202311080088.8
申请日：2023-08-25
Applicant: 东莞新科技术研究开发有限公司
Inventor： 祁延刚
Abstract: 本发明研磨盘的制造方法，包括：制备研磨盘料：磨粒与复合粘合剂混合搅拌均匀获得研磨盘料；以及将所述研磨盘料干燥后压模，加热加压后固定成型，在预定温度下烧结获得研磨盘；其中，所述磨粒包括陶瓷磨粒和金刚石磨粒，所述陶瓷磨粒和所述金刚石磨粒按照9.4:0.6至9.6:0.4的重量比进行混合。该方法制得的研磨盘的磨料分布均匀，而且磨削效果好，性能稳定从而保证产品一致性，同时，制造成本低，制造效率高。
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公开(公告)号：CN119458133A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202411550621.7
申请日：2024-11-01
Applicant: 新乡航空工业(集团)有限公司
Abstract: 本发明专利涉及机械结构设计领域，具体是一种内锥管口的自动化研磨装置，包括电源，所述的电源与时间控制板、调速器、电机依次连接，电机设置在外壳内上部，电机的输出轴与设置在外壳中的硅胶连接装置连接，硅胶连接装置与研磨头连接，研磨头用于研磨位于外壳底部的内锥管口，本发明加工效率高、质量稳定可靠，能够满足大批量研磨内锥管口的需求，大大提高了生产效率，从原先人工研磨一个管口的30min提升至只要5min。
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公开(公告)号：CN119347641A
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202411800567.7
申请日：2024-12-09
Applicant: 黑龙江龙唐电力投资有限公司大庆供热分公司
Abstract: 本发明公开了一种便捷式截止阀阀座对中研磨装置，包括对中组件，整体固设在截止阀阀座的外部；该对中组件的中心位置与所述阀座的中心位置处于同一竖直线上，以此保证后续的研磨装置处于阀座的中心，保证正常研磨不会出现偏差；研磨组件，底部与截止阀阀座内部贴合，中上区域与所述对中组件的中心活动贯穿；通过本发明的设计，选择适应的研磨盘，并在研磨盘背面粘连背胶砂纸，根据研磨目数进行选择，在研磨的过程中，通过调节对中定位块和调节杆、定位锁块以及锁紧螺栓来进行对中操作，即可实现阀门研磨作业，该装置便捷、高效，可以对截止阀阀座进行自动对中，解决因不对中而引发的偏磨问题，适用于DN200口径一下的截止阀阀门研磨。
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公开(公告)号：CN119319523A
公开(公告)日：2025-01-17
申请号：CN202411832243.1
申请日：2024-12-12
Applicant: 湖南亦德金属有限公司
Inventor： 燕劲成
Abstract: 本发明涉及珠宝首饰加工技术领域，且公开了一种用于珠宝首饰的研磨装置，包括安装板，以及设置在所述安装板顶部的调节组件，所述调节组件包括固定连接在安装板顶部的固定横板，所述固定横板的内壁固定连接有电动推杆，所述电动推杆的输出端固定连接有滑块，所述滑块的外壁与固定横板的内壁滑动连接，所述滑块的顶部固定连接有移动板，所述移动板的侧壁固定连接有第一固定架，所述第一固定架的内壁固定连接有第一驱动电机，所述第一驱动电机的输出端固定连接有第一输出轴，所述第一输出轴活动贯穿移动板的内部并延伸至移动板的外部，通过设置调节组件，便于通过支撑板对珠宝手链进行外撑，从而便于对珠宝手链表面进行研磨。
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公开(公告)号：CN119217257A
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202411418369.4
申请日：2024-10-11
Applicant: 国电电力发展股份有限公司和禹水电开发公司
Abstract: 本公开涉及一种镜板研磨装置，所述镜板研磨装置包括：旋转支撑机构（100），所述旋转支撑机构（100）的顶部用于安装镜板，所述旋转支撑机构（100）用于带动所述镜板绕自身轴线转动；以及研磨机构（200），所述研磨机构（200）包括安装架（210）、研磨件（220）和第一驱动件（230），所述安装架（210）连接于所述旋转支撑机构（100），所述研磨件（220）通过所述安装架（210）布置在所述旋转支撑机构（100）的上方，所述第一驱动件（230）安装于所述安装架（210）且传动连接于所述研磨件（220），以驱动所述研磨件（220）研磨所述镜板。通过上述技术方案，该镜板研磨装置的研磨效率高。
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公开(公告)号：CN119188585A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202411560281.6
申请日：2024-11-04
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明涉及一种针对电场均匀排布与光场相互协调的光电化学机械抛光半导体衬底的装置及方法，包括机架、机体单元、抛光盘组件、导电基座、LED紫外光源、电化学工作站和移动组件，机体单元用于抛光盘组件的加载和卸载，电化学工作站、LED光源电源分别在加工过程中为导电基座和LED紫外光源提供电源，LED紫外光源固定在抛光盘上，在抛光盘对工件抛光过程中一同作用在加工中的半导体衬底工件上，半导体衬底工件粘结在导电基座之上。本发明LED光源直接照射在加工工件表面，有效缩短光源与抛光液之间的距离，提高光场的作用，同时调节沿半径不同方向上的光场强度，与施加在工件上的电场一同作用保证工件表面的氧化均匀，加工后的工件的平整度有所保证。
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公开(公告)号：CN119098897A
公开(公告)日：2024-12-10
申请号：CN202411601167.3
申请日：2024-11-11
Applicant: 深圳市中勋精密机械有限公司
Abstract: 本申请公开了基于刀具成型研磨的多面加工控制系统及方法，涉及刀具加工的领域，基于刀具成型研磨的多面加工控制系统，包括机床主体和料盘，所述机床主体设有砂轮组、机械手、夹具、载物台和翻面机构，所述载物台用于放置料盘；所述机床主体设有夹具平台，所述夹具平台设有夹具，所述夹具包括夹持驱动件、固定件和活动件，所述夹持驱动件用于驱动所述活动件靠近或远离所述固定件；所述翻面机构用于夹持并翻转工件；所述机械手设有第一夹爪和第二夹爪，所述第一夹爪能够夹持移送工件，所述第二夹爪能够夹持并旋转工件的角度。本申请能够提高刀具的研磨加工效率。
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公开(公告)号：CN118990327A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202411240161.8
申请日：2024-09-05
Applicant: 上高县奥古特陶瓷有限公司
Abstract: 本发明提供一种复合材料加工用研磨装置及其加工方法，涉及研磨装置技术领域，本发明包括水箱底座，本发明通过设置清洁装置，在将加工后的复合材料板传送至一定位置后，会落在第一海绵辊和第二海绵辊之间，使其对复合材料板的上下两侧进行传送的过程中，表面的海绵会对复合材料板的上下两侧进行擦拭，将其附着的水分擦拭清洁掉，这样在后期进行搬运时，表面就不会发生打滑现象，便于对其进行抓握住搬运，同时也可以避免附着的水滴落在地面上，导致地面打滑而产生的安全隐患问题出现，提高操作人员的工作安全性，同时第一刮板和第二刮板会将第一海绵辊和第二海绵辊表面吸附下来的水分刮离掉，便于后期继续擦拭清洁。
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公开(公告)号：CN118024128B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202410368685.9
申请日：2024-03-28
Applicant: 安徽长飞先进半导体股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种晶圆平坦化装置及方法，属于半导体制造技术领域。晶圆平坦化装置包括：抛光盘、抛光头、液体供应部件和第一光源。抛光盘的上表面设置有多个晶圆容置槽；抛光头设置于抛光盘的上方，抛光头的下端固定有抛光垫，抛光垫的抛光作用面的面积大于或等于待磨晶圆的待抛光面的面积；液体供应部件用于向抛光盘供应化学液；平坦化制程中，各待磨晶圆的待抛光面均浸没于化学液中；第一光源设置于抛光盘的上方；第一光源发出的第一类光的照射范围覆盖各待磨晶圆的待抛光面；同一时刻，抛光垫对部分待磨晶圆的待抛光面进行研磨；其他待磨晶圆的待抛光面在第一类光的照射下，在化学液中发生氧化反应。本发明实施例可以提高晶圆平坦化效率。
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公开(公告)号：CN118875963A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202411243588.3
申请日：2024-09-05
Applicant: 深圳市昇茂科技有限公司
Abstract: 本发明公开一种半自动晶圆减薄机，包括研磨装置、布置于研磨装置下方的转台装置，以及靠近转台装置布置的冷却水喷洒组件和测厚机构；所述研磨装置包括磨轮机构、平衡组件；所述磨轮机构包括磨轮安装架、安装于磨轮安装架一侧的第一Z轴升降机构、与第一Z轴升降机构连接的Z轴升降板、连接于Z轴升降板一侧的主轴安装座，以及安装于主轴安装座上的电主轴。本发明采用机械主轴研磨的方式，相对于应用了气浮主轴的设备而言，刚性大大提升，可适应高硬度材料的磨削，应用范围更广，同时，转台装置防水性能好，可防止磨削水进入转台内部，进而避免影响转台正常工作，实用性强。
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