-
-
公开(公告)号:CN118875963A
公开(公告)日:2024-11-01
申请号:CN202411243588.3
申请日:2024-09-05
申请人: 深圳市昇茂科技有限公司
摘要: 本发明公开一种半自动晶圆减薄机,包括研磨装置、布置于研磨装置下方的转台装置,以及靠近转台装置布置的冷却水喷洒组件和测厚机构;所述研磨装置包括磨轮机构、平衡组件;所述磨轮机构包括磨轮安装架、安装于磨轮安装架一侧的第一Z轴升降机构、与第一Z轴升降机构连接的Z轴升降板、连接于Z轴升降板一侧的主轴安装座,以及安装于主轴安装座上的电主轴。本发明采用机械主轴研磨的方式,相对于应用了气浮主轴的设备而言,刚性大大提升,可适应高硬度材料的磨削,应用范围更广,同时,转台装置防水性能好,可防止磨削水进入转台内部,进而避免影响转台正常工作,实用性强。
-
公开(公告)号:CN118848800A
公开(公告)日:2024-10-29
申请号:CN202410499362.3
申请日:2024-04-24
申请人: 株式会社荏原制作所
摘要: 本发明提供一种可迅速将研磨后的基板(例如晶片)搬送至清洗组件的基板处理装置。第一处理单元(101)具备:研磨基板(W)的研磨组件(1A、1B);清洗基板(W)的清洗组件(8、9);使清洗后的基板(W)干燥的干燥组件(11);从第一处理单元(101)的一方侧延伸至相反侧的基板搬送装置(14);将基板(W)从基板搬送装置(14)搬送至研磨组件(1A、1B),并从研磨组件(1A、1B)搬送至清洗组件(8、9)的升降搬送装置(5);及搬送基板(W)的中继搬送装置(6)。中继搬送装置(6)构成为在处理单元(101、102)之间搬送基板(W)。
-
公开(公告)号:CN118809432A
公开(公告)日:2024-10-22
申请号:CN202411030096.6
申请日:2024-07-30
申请人: 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司
发明人: 姜翠兰
摘要: 本发明涉及一种在集成电路铜膜化学机械抛光中使用抛布和抛液的方法,所属硅片抛光工艺技术领域,包括如下操作步骤:第一步:将由PH调节剂、磨料、氧化剂、表面活性剂和润滑剂组成的抛光液进行混合制备。第二步:抛液中的碱、有机物与集成电路反应,生成硬度较单晶硅更低的结合产物。第三步:采用溶胶凝胶法制备出的高活性硅溶胶作为磨料成分。第四步:通过抛光布将抛液中的磨料在抛布与集成电路的相对运动中机械去除反应层。采用晶片与抛布接触面减小,降低晶片与抛布之间分子间作用力,减少抛布吸片的发生。实现使用无沟槽抛布,提升产品NT。通过晶片、抛布、抛液之间流动型增强,利于控制晶片去除形貌,产品平坦度更佳。
-
公开(公告)号:CN111390748B
公开(公告)日:2024-09-20
申请号:CN202010325942.2
申请日:2020-04-23
申请人: 昆山艾伯格机器人科技有限公司
发明人: 郑建生
IPC分类号: B24B37/04 , B24B37/11 , B24B37/30 , B24B37/34 , B24B41/04 , B24B47/12 , B24B47/20 , B24B47/22 , B24B55/04 , B65B69/00
摘要: 本发明涉及一种玻璃自动打磨抛光设备,包括滚筒线机架和龙门架,龙门架的顶部沿X轴方向上设置有X轴驱动平台,X轴驱动平台通过X轴滑块与沿着Y轴方向上设置的Y轴驱动平台相连接,Y轴驱动平台上依次通过Y轴滑块和Y轴连接板连接设置有工作单元,工作单元包括研磨防护罩升降机构、研磨机构和防护膜剥离机构。本发明设置有辊道式输送连续作业方式:通过滚筒线机架上的输送辊道将大型待研磨的玻璃制品输送至指定位置;输送辊道可兼容宽度2M以下所有产品,实现一机多用。本发明模拟人工方式剥膜机构:本发明使用效果剥膜效率更高、良率高;可适用于不同位置,多种产品的防护膜剥离。
-
公开(公告)号:CN118544260A
公开(公告)日:2024-08-27
申请号:CN202410837555.5
申请日:2024-06-26
申请人: 安徽恒均粉末冶金科技股份有限公司
摘要: 本发明公开了方便粉末冶金零件加工件快速取出的精加工研磨机,涉及研磨机技术领域,现有的研磨机在进行研磨后,压力装置泄压后需要人工对零部件进行取出,其中零部件置于设备内部,只能进行一个一个的拿取,不能一次性进行多组的拿取,取出操作会出现很多的不便,且在效率上也会相对较,本发明通过拿取盘上端的磁力环片和对接圆片对与其相应位置的零部件进行磁力吸取,后通过人工统一进行零部件的剥离,也可单独安装刮除装置,通过刮除装置上端的刮板划过磁力环片,进而将上端的零部件刮除下来,无论是手动还是装置刮除,相比于传统直接在研磨仓内进行一一拿取来说,效率上得到了加快。
-
公开(公告)号:CN118456277A
公开(公告)日:2024-08-09
申请号:CN202410750343.3
申请日:2024-06-12
申请人: 奇男子五金制品(浙江)有限公司
摘要: 本发明公开了一种具有研磨功能的冰刀生产设备,包括壳体总成、恒力研磨组件和压力平衡组件,所述恒力研磨组件和压力平衡组件均设于壳体总成的内部,所述壳体总成上开设有进料孔,所述恒力研磨组件和压力平衡组件分被设于进料孔的两侧。本发明属于冰刀研磨技术领域,具体是指一种具有研磨功能的冰刀生产设备;本发明通过设置恒力研磨组件和压力平衡组件,能够在冰刀研磨的过程中对冰刀的研磨压力进行自补偿,同时能够使装置对冰刀的压力进行抵消补偿,保证装置能够对冰刀研磨的均匀施压,有效解决了目前冰刀生产装置不能够对冰刀的研磨压力自行补偿、冰刀形状不规则容易钝化的问题。
-
公开(公告)号:CN118254426A
公开(公告)日:2024-06-28
申请号:CN202211699052.3
申请日:2022-12-28
申请人: 华为技术有限公司 , 安徽禾臣新材料有限公司
IPC分类号: B32B5/02 , B32B27/04 , B32B27/40 , B32B27/12 , B32B7/12 , B32B33/00 , B32B37/00 , B32B37/12 , B32B38/00 , B32B38/08 , B32B38/16 , B24B37/11
摘要: 本申请实施例提供了一种层状材料,包括依次层叠设置的基底层、防水层和发泡层,其中,所述防水层含有聚氨酯弹性体,所述防水层的孔隙率在8%以下,所述防水层靠近所述发泡层的表面对水的接触角为90°‑110°。引入上述防水层可保证层状材料的研磨效果不受影响的情况下,很好地防止基材表面处理用工作液及产生的工作废液渗入,具有良好的防水防污效果,进而提高层状材料的使用寿命。本申请实施例还提供了该层状材料的制造方法及相关应用。
-
公开(公告)号:CN118254103A
公开(公告)日:2024-06-28
申请号:CN202410581711.6
申请日:2024-05-11
申请人: 江南造船(集团)有限责任公司
摘要: 本发明提供一种船用阀组研磨设备,该研磨设备通过固定盘、转动筒、安装板、定位机构、夹持机构、以及弹性研磨机构的设置下,能够旋转转动板,使夹持板摆动至法兰盘的下方,接着利用第二插杆对转动板进行限位,从而能够更好的旋转第二螺杆,控制夹持板对法兰盘进行夹持,以保证固定盘和阀组的连接稳定性,接着人员旋转转动杆,控制第一螺杆的旋转使移动板、滑动架和挤压板进行下降,使第一压簧向下移动并挤压底板,直至使研磨板与阀芯接触,并对其提供压力,从而该装置具备可伸长的效果以及在调节研磨板的压力范围时也更广。此外,还对研磨板的安装方式进行改进,能够无需使用工具即可将研磨板进行拆装,提高了研磨板的拆装效率。
-
公开(公告)号:CN118219163A
公开(公告)日:2024-06-21
申请号:CN202410537964.3
申请日:2024-04-30
申请人: 淮安市文盛电子有限公司
摘要: 本发明公开了一种焊头研磨装置,应用在焊头研磨装置技术领域,其技术方案要点是:包括能拆卸固定连接于焊枪管上的安装组件以及基于滑移自锁组件能拆卸固定连接于所述安装组件上的安装座,所述安装座上基于第一丝杆滑移组件滑动连接有滑移座,所述滑移座底部靠近焊头的一端基于旋转组件转动连接有旋转座,初始状态时所述旋转座贴合于所述滑移座表面,研磨状态时所述旋转座垂直于焊头轴线,所述旋转座内基于第二丝杆滑移组件滑动连接有用于研磨焊头表面的研磨组件;具有的技术效果是:结构简单,适配范围广。
-
-
-
-
-
-
-
-
-