发明公开
- 专利标题: 一种基于悬空石墨烯/氮化硼异质结的真空晶体管及其制备方法、应用
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申请号: CN202210270004.6申请日: 2022-03-18
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公开(公告)号: CN114724905A公开(公告)日: 2022-07-08
- 发明人: 罗芳 , 崔子孺 , 朱梦剑 , 张检发 , 朱志宏 , 秦石乔
- 申请人: 中国人民解放军国防科技大学
- 申请人地址: 湖南省长沙市开福区德雅路109号
- 专利权人: 中国人民解放军国防科技大学
- 当前专利权人: 中国人民解放军国防科技大学
- 当前专利权人地址: 湖南省长沙市开福区德雅路109号
- 代理机构: 长沙国科天河知识产权代理有限公司
- 代理商 陈俊好
- 主分类号: H01J21/10
- IPC分类号: H01J21/10 ; H01J19/24
摘要:
本发明公开一种基于悬空石墨烯/氮化硼异质结的真空晶体管及其制备方法、应用,该制备方法包括制备金属电极、刻蚀沟道以及转移六方氮化硼‑石墨烯复合结构三个步骤,直接利用硅基底作为集电极,极大的简化了制备工艺。本发明中设计的真空晶体管器件结构极具创新性,充分利用氮化硼与石墨烯之间的结合力,将石墨烯/氮化硼异质结整体悬浮在沟道上方,有效降低了石墨烯断裂、塌陷、卷曲和褶皱的概率,克服了传统制备悬空石墨烯器件成功率极低的困难,极大提高了悬空石墨烯器件制备的成功率,且制备得到的真空晶体管结构稳定性更强。使用新的转移方法,避免了石墨烯与其它溶液等介质的接触,有效地解决了现有掺杂的问题。