发明授权
- 专利标题: 一种晶圆片清洗组件、清洗装置及清洗方法
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申请号: CN202210445227.1申请日: 2022-04-26
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公开(公告)号: CN114769200B公开(公告)日: 2024-09-13
- 发明人: 胡仲波 , 冯永 , 李健儿 , 蒋红全 , 周建余
- 申请人: 四川上特科技有限公司
- 申请人地址: 四川省遂宁市射洪县河东大道88号
- 专利权人: 四川上特科技有限公司
- 当前专利权人: 四川上特科技有限公司
- 当前专利权人地址: 四川省遂宁市射洪县河东大道88号
- 代理机构: 成都诚中致达专利代理有限公司
- 代理商 曹宇杰
- 主分类号: B08B3/02
- IPC分类号: B08B3/02 ; B08B13/00 ; H01L21/67
摘要:
本发明公开了一种晶圆片清洗组件、清洗装置及清洗方法,清洗组件用于清洗晶圆片,包括清洗池、清洗槽、多个水喷头。清洗槽左右两端连接于清洗池内壁,清洗槽底部悬空,且底部开口设置;水喷头形状为圆盘状,连接有水管,水喷头两面均设有喷水孔,清洗槽内间隔设有喷头卡槽、晶圆片卡槽,多个水喷头依次排列于喷头卡槽内;若干晶圆片依次排列于晶圆片卡槽内。将浸泡式清洗改成喷洒式清洗,可以清洗每一个晶圆片,并且便于污水快速流走,可以极大的提高晶圆片的清洗效果和清洗效率。
公开/授权文献
- CN114769200A 一种晶圆片清洗组件、清洗装置及清洗方法 公开/授权日:2022-07-22
IPC分类: