本发明涉及一种清洁装置，包括：机体，包括沿第一方向依次设置且相互连通的上料位、清洁位及出料位，上料位用于水平放置硅片，清洁位用于清洁硅片，出料位与扩散炉的进料口对接且用于输出硅片；传动模块，包括传动轴及多组传动单元，传动轴沿第一方向贯穿且可转动地安装于机体，多组传动单元沿第一方向设置于传动轴；输送模块，包括从上料位排布至出料位且同向转动的多组输送单元，输送单元包括沿竖直方向间隔设置于上料位两侧的两个第一输送轴，两个第一输送轴分别可转动地安装于机体，且与传动单元传动连接。两个第一输送轴夹持着硅片可靠且稳定地运动，减少对硅片的损伤，出料位与扩散炉的进料口对接，省去上下料工序，降低了占地空间及成本。