- 专利标题: 一种用于硅片清洗的旋转式清洗槽机构及硅片旋转方法
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申请号: CN202210738183.1申请日: 2022-06-28
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公开(公告)号: CN114823433B公开(公告)日: 2022-09-02
- 发明人: 管选伟 , 孙国浩
- 申请人: 江苏英思特半导体科技有限公司
- 申请人地址: 江苏省南通市如皋市城南街道新源北路8号11号厂房(1-2层)
- 专利权人: 江苏英思特半导体科技有限公司
- 当前专利权人: 江苏英思特半导体科技有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省南通市如皋市城南街道新源北路8号11号厂房(1-2层)
- 代理机构: 北京和信华成知识产权代理事务所
- 代理商 李莹
- 主分类号: H01L21/67
- IPC分类号: H01L21/67 ; H01L21/02 ; H01L21/687 ; B08B3/10 ; B08B3/08
摘要:
本发明涉及一种用于硅片清洗的旋转式清洗槽机构,包括储液槽以及置于储液槽内的多个花篮,储液槽包括内槽体以及外槽体,花篮通过内槽体内壁的支撑座设置在内槽体内,花篮内具有容多个硅片放置的第一腔室,储液槽内具有对第一腔室内的硅片进行旋转的驱动组件;转动轴的外部套设有轴套,轴套与转动轴之间通过移动组实现轴套与转动轴之间的同轴或偏心,花篮内的硅片随着轴套与转动轴的转动而在花篮内转动,当轴套与转动轴同轴时,驱动组件驱动两轴套同向圆周转动,当轴套与转动轴偏心时,驱动组件驱动两轴套上下交错式圆周转动。本发明具有如下优点:满足不同形状的硅片的高效清洗效果,提高硅片产品良率。
公开/授权文献
- CN114823433A 一种用于硅片清洗的旋转式清洗槽机构及硅片旋转方法 公开/授权日:2022-07-29
IPC分类: