薄膜晶体管、显示基板和薄膜晶体管的制备方法
摘要:
本申请公开了一种薄膜晶体管、显示基板和薄膜晶体管的制备方法,薄膜晶体管包括依次设置的缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极金属层、源极金属层、漏极金属层以及钝化层,栅极金属层、源极金属层和漏极金属层间隔设置,有源层包括至少两个导体部和一个第一半导体部,两个导体部分别设置在第一半导体部的两端,并与第一半导体部电连接;栅极金属层的投影覆盖第一半导体部,源极金属层和漏极金属层分别通过栅极绝缘层的第一过孔和第二过孔与对应的两个导体部连接。本申请将设置导体部和半导体部以形成有源层,不需要对半导体层进行离子轰击以得到导体化的半导体层,避免导体化的半导体层的电阻大,导致开态电流不够,引起显示不均。
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