- 专利标题: 一种硒化铋纳米片/四硒化三铋纳米线复合材料的制备方法及应用
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申请号: CN202210474732.9申请日: 2022-04-29
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公开(公告)号: CN114935592B公开(公告)日: 2023-09-08
- 发明人: 王金忠 , 杨锦程 , 曾值 , 王东博
- 申请人: 哈尔滨工业大学
- 申请人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 代理机构: 哈尔滨龙科专利代理有限公司
- 代理商 李智慧
- 主分类号: G01N27/30
- IPC分类号: G01N27/30 ; G01N27/416
摘要:
本发明公开了一种硒化铋纳米片/四硒化三铋纳米线复合材料的制备方法及应用,属于光电材料和探测器的制备技术领域。本发明使用操作简便、过程可控的一步溶剂热法制备出了Bi2Se3纳米片/Bi3Se4纳米线复合材料,其中两种组分的比重可以通过调节Se源的摩尔量来调控。制备方法简单,纳米结构接触紧密,以该复合材料为工作电极制备的自供能光电探测器响应迅速,在近红外‑可见‑紫外波段均有较强的光电流响应,相比基于纯相Bi2Se3纳米片制备的自供能光电探测器,其探测性能有很大提升,能够有效地抑制光生电子‑空穴的复合。Bi2Se3纳米片/Bi3Se4纳米线复合材料的制备对未来发展Bi‑Se双元素材料的异质结构具有较高的参考价值。
公开/授权文献
- CN114935592A 一种硒化铋纳米片/四硒化三铋纳米线复合材料的制备方法及应用 公开/授权日:2022-08-23