本发明属于能源催化技术领域，公开了一种具有氧空位缺陷的SnTa2O6‑x纳米片光催化剂制备方法，该方法包括以下步骤：(1)以SnCl2粉末与KTaO3粉末为原料，将它们混合后用玛瑙研钵充分研磨，然后退火；(2)将产物洗涤，得到SnTa2O6纳米片；(3)将SnTa2O6纳米片置于玛瑙研钵中，滴入萘酚溶液，充分研磨后，将产物置于基底上，干燥后即可得到负载有SnTa2O6的基底；(4)将基底夹住后伸入预混平面火焰的后火焰区退火10～150秒，由此即可得到具有氧空位缺陷的SnTa2O6‑x纳米片光催化剂。与使用高温还原及添加强还原性试剂的现有技术相比，本发明利用火焰还原具有独特的高温、超快升温速率、可调还原环境和开放大气下操作等独特优势。