发明公开
- 专利标题： 一种蓝宝石双面抛光晶片的加工工艺
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申请号： CN202210897318.9申请日： 2022-07-28
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公开(公告)号： CN115070976A公开(公告)日： 2022-09-20
- 发明人: 莫康 , 郑贤良 , 余学志 , 沈祥海
- 申请人： 福建晶安光电有限公司
- 申请人地址： 福建省泉州市安溪县湖头镇横山村光电产业园
- 专利权人： 福建晶安光电有限公司
- 当前专利权人： 福建晶安光电有限公司
- 当前专利权人地址： 福建省泉州市安溪县湖头镇横山村光电产业园
- 主分类号： B28D5/04
- IPC分类号： B28D5/04 ; B24B1/00 ; H01L21/02
摘要：
本申请提供了一种蓝宝石双面抛光衬底的加工工艺，通过高温蚀刻的作用，达到消除应力及去除部分研磨损伤层的效果，将传统加工制程中上蜡、铜抛、下蜡、清洗、退火、反面上蜡、铜抛、下蜡8个步骤变更为一个蚀刻替代，简化整体的工序，节省了>50h的制程时间；通过蚀刻过程中添加磷酸保证蚀刻溶液的配比处于稳定状态，以达到稳定的蚀刻速率和较高的均匀性，另外，蚀刻溶液配比的稳定可以提升寿命，从而降低成本。