发明公开
- 专利标题： 一种低反射率单晶硅用制绒添加剂及其制备方法和应用
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申请号： CN202210734339.9申请日： 2022-06-27
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公开(公告)号： CN115073752A公开(公告)日： 2022-09-20
- 发明人: 石建伟
- 申请人： 天津鑫泰士特电子有限公司
- 申请人地址： 天津市滨海新区天津自贸试验区(天津港保税区)海滨八路118号B303
- 专利权人： 天津鑫泰士特电子有限公司
- 当前专利权人： 天津鑫泰士特电子有限公司
- 当前专利权人地址： 天津市滨海新区天津自贸试验区(天津港保税区)海滨八路118号B303
- 代理机构： 上海新泊利知识产权代理事务所
- 代理商 王晶
- 主分类号： C08G81/00
- IPC分类号： C08G81/00 ; C30B33/10 ; C30B29/06
摘要：
本发明提供了一种低反射率单晶硅用制绒添加剂及其制备方法和应用。所述制绒添加剂由壳聚糖通过改性接枝有机硅氧烷链段、聚醚链段等制备而成，该制绒添加剂能够在碱性水溶液中充分溶解，本身具有良好的表面张力，无需添加表面活性剂，有效节约配制成本，使用简便，经济高效，在单晶硅制绒时，能有效降低反射率，制得的单晶硅表面结构致密均匀，具有良好的品质，在单晶硅片制备领域，具有良好的应用前景和应用价值。
