发明授权
- 专利标题： 一种多晶硅抛光组合物及其应用
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申请号： CN202210690202.8申请日： 2022-06-17
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公开(公告)号： CN115093794B公开(公告)日： 2023-10-13
- 发明人: 王永东 , 卞鹏程 , 徐贺 , 王庆伟 , 王瑞芹 , 崔晓坤 , 李国庆 , 卫旻嵩
- 申请人： 万华化学集团电子材料有限公司 , 万华化学集团股份有限公司
- 申请人地址： 山东省烟台市经济技术开发区北京中路50号;
- 专利权人： 万华化学集团电子材料有限公司,万华化学集团股份有限公司
- 当前专利权人： 万华化学集团电子材料有限公司,万华化学集团股份有限公司
- 当前专利权人地址： 山东省烟台市经济技术开发区北京中路50号;
- 主分类号： C11D1/66
- IPC分类号： C11D1/66 ; C09G1/02 ; H01L21/321
摘要：
本发明公开了一种多晶硅抛光组合物及其应用，所述多晶硅抛光组合物以纳米二氧化硅胶体为主要抛光组分，并添加有高哌嗪类物质和酮酸类物质作为助剂。本发明的抛光组合物中同时添加高哌嗪类物质和酮酸类物质分别作为速率促进剂和选择性抑制剂，绿色低毒，对多晶硅材料去除速率高，对氧化硅、氮化硅选择性大，抛光缺陷少，与现有技术相比，具有明显优势。
公开/授权文献
- CN115093794A 一种多晶硅抛光组合物及其应用 公开/授权日：2022-09-23
