本发明公开了一种具有迷宫形凹槽的化学机械抛光垫及其应用，所述抛光垫包括至少一抛光层，所述抛光层表面设有被隔离凸台分隔的不连续凹槽，所述不连续凹槽包括主凹槽和副凹槽，所述主凹槽以抛光垫中心为圆心呈不连续的同心圆分布，所述副凹槽将相邻的主凹槽相连，所述副凹槽和隔离凸台在所述主凹槽上分别均匀间隔分布，形成迷宫形不连续凹槽通道。本发明的抛光垫通过主凹槽、副凹槽和隔离凸台的交替排布增加抛光液在沟槽内的停留时间，延长抛光液流动路径，同时使碎屑能够及时排出，从而在降低抛光液消耗的条件下减少缺陷，并增加研磨平坦性。