发明公开
- 专利标题: 光透射性积层体的检查方法
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申请号: CN202180016062.X申请日: 2021-02-16
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公开(公告)号: CN115135996A公开(公告)日: 2022-09-30
- 发明人: 田中卓哉 , 望月政和 , 小西隆博 , 伊崎章典
- 申请人: 日东电工株式会社
- 申请人地址: 日本大阪府
- 专利权人: 日东电工株式会社
- 当前专利权人: 日东电工株式会社
- 当前专利权人地址: 日本大阪府
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 曲天佐
- 优先权: 2020-032701 20200228 JP
- 国际申请: PCT/JP2021/005643 2021.02.16
- 国际公布: WO2021/172089 JA 2021.09.02
- 进入国家日期: 2022-08-22
- 主分类号: G01N21/958
- IPC分类号: G01N21/958 ; G01B11/00 ; G01M11/00 ; B32B7/023 ; B32B7/12
摘要:
本发明提供一种可检测出与以往相比格外微小的异物的光透射性积层体的检查方法。本发明光透射性积层体的检查方法是在将光透射性积层体逐片固定在半空中的状态下进行透射检查,检测光透射性积层体中的8μm~50μm尺寸的缺陷。例如,缺陷的检测包含以下步骤:将规定倍率的光学系统的焦点对准光透射性积层体的第一主面的表面,并以光学系统扫描光透射性积层体,而制作出缺陷的XY坐标图;使光学系统的焦点从光透射性积层体的第一主面的表面向厚度方向内侧偏移规定距离,并以光学系统扫描光透射性积层体,而制作出另一缺陷的XY坐标图;及,整合制作出的缺陷的XY坐标图。