发明授权
- 专利标题： 双层结构辐射制冷薄膜及其制备方法和应用
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申请号： CN202210750024.3申请日： 2022-06-29
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公开(公告)号： CN115160620B公开(公告)日： 2024-03-12
- 发明人: 杨雄波 , 耿嘉林 , 谭新玉 , 齐贵广 , 涂伊滕 , 姚曙民 , 刘萌 , 聂仕晋
- 申请人： 三峡大学
- 申请人地址： 湖北省宜昌市西陵区大学路8号
- 专利权人： 三峡大学
- 当前专利权人： 三峡大学
- 当前专利权人地址： 湖北省宜昌市西陵区大学路8号
- 代理机构： 宜昌市三峡专利事务所
- 代理商 成钢
- 主分类号： C08J7/06
- IPC分类号： C08J7/06 ; C08J5/18 ; C08L83/04 ; C08L27/18 ; C08L29/04 ; C08L27/16 ; C09K5/14
摘要：
本发明提供了一种双层结构辐射制冷薄膜及其制备方法和应用。该薄膜包括底部的聚二甲基硅氧烷膜层，聚二甲基硅氧烷膜层上均匀分布有疏水改性的高岭土粉末层，底层与上层的用量比为5:1~3。本发明还公开了该薄膜及其制备方法和应用，底层膜具有低表面能性质，化学性质稳定，借助改性高岭土的疏水性能，为薄膜的疏水性和耐候性及使用寿命提供了保证；使得薄膜具有较好的辐射制冷效果，且制备工艺简单，能够工业化生产。
公开/授权文献
- CN115160620A 双层结构辐射制冷薄膜及其制备方法和应用 公开/授权日：2022-10-11
