- 专利标题: 成膜用雾化装置及使用了该成膜用雾化装置的成膜装置
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申请号: CN202180016328.0申请日: 2021-02-18
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公开(公告)号: CN115175769B公开(公告)日: 2024-09-17
- 发明人: 桥上洋 , 川原村敏幸
- 申请人: 信越化学工业株式会社 , 高知县公立大学法人
- 申请人地址: 日本东京都;
- 专利权人: 信越化学工业株式会社,高知县公立大学法人
- 当前专利权人: 信越化学工业株式会社,高知县公立大学法人
- 当前专利权人地址: 日本东京都;
- 代理机构: 北京路浩知识产权代理有限公司
- 代理商 张晶; 刘余婷
- 国际申请: PCT/JP2021/006048 2021.02.18
- 国际公布: WO2021/172154 JA 2021.09.02
- 进入国家日期: 2022-08-23
- 主分类号: B05B17/06
- IPC分类号: B05B17/06 ; H01L21/365 ; H01L21/368 ; C23C16/455
摘要:
本发明是一种成膜用雾化装置,其具有:原料容器,其容纳原料溶液;筒状部件,其在空间上连接所述原料容器的内部与外部,且设置为其下端在所述原料容器内不与所述原料溶液的液面接触;超声波发生器,其具有一个以上的照射超声波的超声波发生源;以及液槽,其使所述超声波经由中间液传播至所述原料溶液,其中,所述超声波发生源位于所述液槽的外侧,所述超声波发生源的中心位于所述原料容器的侧壁的内侧的延长所形成的面与所述筒状部件的侧壁的外侧的延长所形成的面之间,当将所述超声波发生源的超声波射出面的中心线设定为u时,以所述中心线u不与所述筒状部件的侧壁相交的方式设置超声波发生源。由此,提供一种能够形成抑制了颗粒附着的高品质的薄膜的成膜用雾化装置。
公开/授权文献
- CN115175769A 成膜用雾化装置及使用了该成膜用雾化装置的成膜装置 公开/授权日:2022-10-11