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公开(公告)号：CN217948254U
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN202220519843.2
申请日：2022-03-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C23C16/40 , C23C16/448 , C23C16/455
Abstract: 本实用新型的成膜装置对经雾化的原料溶液进行热处理而在基板上进行成膜，所述成膜装置包括：雾化部，将所述原料溶液雾化而产生雾；载气供给部，供给载气，所述载气搬送所述雾化部中所产生的所述雾；成膜部，在内部包括载置所述基板的载置部，将由所述载气搬送的所述雾供给至所述基板上；以及排气部，从所述成膜部排出废气，且在所述成膜部内的所述载置部的上方进而包括：喷嘴，向所述基板上供给所述雾；以及顶板，将从所述喷嘴供给的所述雾进行整流。由此，提供一种能够应用雾CVD法、能够形成膜厚的面内均一性优异的膜的成膜系统及成膜装置。
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公开(公告)号：CN216980602U
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202122368647.8
申请日：2021-09-29
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本实用新型提供一种激光诱导向前转移系统与装置、基板及显示器的制造系统，用于显示器的像素间距并非排列于蓝宝石基板上的光器件的间距的整数倍的情况。根据形成于蓝宝石基板上的光器件(2)的排列间距(3、4)、及计划向载体基板(6)上移载的光器件的排列间距(5、7)，决定供体基板与受体基板的移动速度之比，与所述供体基板的移动同步地进行激光诱导向前转移，即激光转印，由此将蓝宝石基板上的光器件以与显示器的像素间距相同的排列间距向载体基板移载。
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公开(公告)号：CN219371054U
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202221585302.6
申请日：2021-09-29
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本实用新型提供一种激光诱导向前转移系统与基板及显示器的制造系统，用于显示器的像素间距并非排列于蓝宝石基板上的光器件的间距的整数倍的情况。根据形成于蓝宝石基板上的光器件(2)的排列间距(3、4)、及计划向载体基板(6)上移载的光器件的排列间距(5、7)，决定供体基板与受体基板的移动速度之比，与所述供体基板的移动同步地进行激光诱导向前转移，即激光转印，由此将蓝宝石基板上的光器件以与显示器的像素间距相同的排列间距向载体基板移载。
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公开(公告)号：CN218951491U
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202222440438.4
申请日：2022-09-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/40 , C23C16/46
Abstract: 本实用新型是一种成膜装置、结晶性氧化物膜及其应用，所述成膜装置进行喷雾化学气相沉积法，所述成膜装置包括：基板加热部件，具有载置基板的基板载置部；喷嘴，喷出方向相对于所述基板的表面为垂直方向，且供给包含原料溶液的喷雾；以及所述喷嘴和/或所述基板加热部件的位置调整部件，能够将所述基板载置部的位置调整为所述喷嘴的所述喷出方向的位置与所述喷出方向以外的位置。由此，提供一种以氧化镓为主成分的结晶性氧化物膜、用于使所述结晶性氧化物膜成膜的成膜装置，所述结晶性氧化物膜的结晶性优异，即便为大面积且薄的膜厚，面内的膜厚分布也良好。
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公开(公告)号：CN215932363U
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202121082154.1
申请日：2021-05-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
IPC: G03F1/64
Abstract: 本实用新型的课题在于提供一种减少附着于防护薄膜框架的表面的异物落下的防护薄膜框架、及使用所述框架的防护薄膜。本实用新型提供一种防护薄膜框架，其为框状的防护薄膜框架，包括防护薄膜框架本体、及被覆所述防护薄膜框架本体的绝缘层；以及提供一种防护薄膜，其包括所述防护薄膜框架、及经由粘合剂或粘接剂而设置于所述防护薄膜框架的上端面的防护薄膜膜片；且提供一种带防护薄膜的曝光原版、曝光装置、曝光系统、半导体的制造系统及液晶显示板的制造系统。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN215449882U
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN202120288860.5
申请日：2021-02-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
Abstract: 本实用新型的目的在于提供一种防止源自框架的散射光、且附着于框架表面的异物检查容易的防护薄膜框架及组件、曝光原版、装置与系统及制造系统。一种防护薄膜框架，其为具有设置防护膜的上端面以及面向光掩模的下端面的框状的防护薄膜框架，在所述防护薄膜框架的内侧面具有粗糙度曲线的峭度(Rku)为3.0以下的区域；以及一种防护薄膜组件，包括所述防护薄膜框架作为结构要素。
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公开(公告)号：CN217821249U
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202220717487.5
申请日：2022-03-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 西村晃范
Abstract: 本实用新型提供一种带粘合剂层的防护薄膜框架(1)，具有：一个端面(1a)，设置有防护薄膜膜片；以及另一个端面(1b)，设置有用于贴附至光掩模的粘合剂层(1c)，所述带粘合剂层的防护薄膜框架中，所述粘合剂层的厚度为0.10mm～0.30mm，且所述粘合剂层的粘合力为5×10‑3N/cm～5×10‑1N/cm，且提供一种在所述带粘合剂层的防护薄膜框架的所述一个端面设置防护薄膜膜片而成的防护薄膜框架、防护薄膜及包括其的光掩模及系统。根据本实用新型的带粘合剂层的防护薄膜框架，与以往相比，可抑制粘合剂层的平坦度的劣化，进而可缓和自防护薄膜对光掩模赋予的应力，结果可抑制PID。
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公开(公告)号：CN217821248U
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202220827183.4
申请日：2022-04-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 一种即便在无法涂布防护薄膜用粘接剂的场所也可实现防护膜的组装的防护膜框架层叠体及制造系统、包装物以及运输系统，在具有上端面及下端面的四边形框状防护膜框架的所述上端面具有第一粘接剂层，以第一保护片覆盖所述第一粘接剂层，并且在所述下端面具有第二粘接剂层，以第二保护片覆盖所述第二粘接剂层；一种包装物，利用具有载置防护膜框架层叠体的托盘部及盖部的容器，对所述防护膜框架层叠体进行包装而成；以及一种防护膜的制造系统，将所述防护膜框架层叠体的所述第一保护片剥下，在露出的所述第一粘接剂层设置另行准备的防护薄膜。
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公开(公告)号：CN217787599U
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202220827623.6
申请日：2022-04-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 関原一敏
IPC: G03F1/48
Abstract: 本实用新型提供一种带护膜的光掩模、曝光系统及平板显示器用屏的制造系统，此护膜的至少一条边的边长超过1000mm，且当安装于光掩模的护膜高速移动时，护膜膜片的摇晃量小。本实用新型的护膜包含至少一条边长超过1000mm的护膜框、及粘接于其一个框状面的护膜膜片而构成，且所述护膜，其中，对于护膜膜片，在与相互平行且为线对称的一对护膜框边平行的方向赋予有1％以上且2.5％以下的拉伸应变。本实用新型可降低在曝光机或异物检查机内护膜膜片接触装置零件的危险性。
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公开(公告)号：CN216118382U
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN202121151382.X
申请日：2021-05-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
IPC: G03F1/64
Abstract: 本实用新型的目的在于提供一种使用防护薄膜框架的防护薄膜，其在真空下进行EUV曝光时，耐受自大气压到真空的压力变化而不会产生防护薄膜膜片的破损，而且，框架的加工性良好且在剥离防护薄膜时框架不会破损。本实用新型提供一种防护薄膜框架，其为具有设置防护薄膜膜片的上端面及面向光掩模的下端面的框状的防护薄膜框架，所述防护薄膜框架为金属制，并且自外侧面朝向内侧面设置开放上端面或下端面的切口部，每1mm3体积的防护薄膜的内空间中，内侧面的通气面积的合计为0.001mm2以上，且提供一种防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版、曝光装置、曝光系统、半导体的制造系统及液晶显示板的制造系统。
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