Invention Grant
- Patent Title: 一种磷化铟合成与VGF晶体制备的装置及方法
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Application No.: CN202210829113.7Application Date: 2022-07-15
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Publication No.: CN115198369BPublication Date: 2024-06-11
- Inventor: 王书杰 , 孙聂枫 , 史艳磊 , 刘峥 , 邵会民 , 党冀萍 , 徐森锋 , 姜剑 , 李晓岚 , 王阳 , 张晓丹 , 刘惠生
- Applicant: 中国电子科技集团公司第十三研究所
- Applicant Address: 河北省石家庄市新华区合作路113号
- Assignee: 中国电子科技集团公司第十三研究所
- Current Assignee: 中国电子科技集团公司第十三研究所
- Current Assignee Address: 河北省石家庄市新华区合作路113号
- Agency: 石家庄众志华清知识产权事务所
- Agent 王苑祥; 李双金
- Main IPC: C30B29/40
- IPC: C30B29/40 ; C30B11/00 ; C30B30/00

Abstract:
一种磷化铟合成与VGF晶体制备的装置及方法,涉及化合物半导体的制备,首先将铟元素置于坩埚中,将磷元素置于辅助坩埚区域中心,然后加热并施加离心力,在离心力作用下,铟熔体围绕主坩埚区域形成筒状,铟元素与磷元素处于表面接触的分离状态。通过多温区加热,将铟与磷加热至不同的温度,易挥发元素磷升华后与金属元素铟化合。合成完毕后降低坩埚转速,合成熔体处于水平状态,置入氧化硼实现晶体生长。使用本发明提出的装置和方法,磷元素的注入装置没有加热器,简化了合成设备;合成期间,铟溶体与磷气体的接触面积大,合成速度快;化合物生成前所有材料装料完成,外界沾污减少;实现晶体在原位生长,提高效率。
Public/Granted literature
- CN115198369A 一种磷化铟合成与VGF晶体制备的装置及方法 Public/Granted day:2022-10-18
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IPC分类: