- 专利标题: 一种用于激光微推力器的等离子体增强界面结合力双层工质靶带制备方法
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申请号: CN202210908998.X申请日: 2022-07-29
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公开(公告)号: CN115283222B公开(公告)日: 2023-11-10
- 发明人: 叶继飞 , 邢宝玉 , 洪延姬 , 王思博 , 李南雷
- 申请人: 中国人民解放军战略支援部队航天工程大学
- 申请人地址: 北京市怀柔区八一路1号
- 专利权人: 中国人民解放军战略支援部队航天工程大学
- 当前专利权人: 中国人民解放军战略支援部队航天工程大学
- 当前专利权人地址: 北京市怀柔区八一路1号
- 代理机构: 北京元周律知识产权代理有限公司
- 代理商 苏少康
- 主分类号: B05D3/14
- IPC分类号: B05D3/14 ; B05D7/04
摘要:
本申请提供了一种用于激光微推力器的等离子体增强界面结合力双层工质靶带制备方法,针对现有激光微推力器中,激光烧蚀工质时由于透明薄膜基底与涂覆工质的层间界面结合力不强,产生溅射或鼓包导致推进性能显著降低的问题,通过低温等离子体处理透明薄膜基底表面的方法,增加了薄膜的表面能及工质层在薄膜表面的附着力,进而提高了层间界面结合力。本发明方法通过对透明薄膜基底进行低温等离子体处理,在透明薄膜基底与涂覆工质之间界面引入N‑C=O或C=O等活性基团,使得工质靶带层间界面结合力与已有方法比较提高约50%,可有效抑制工质靶带激光烧蚀过程中的溅射或鼓泡现象,显著提高激光微推力器的推进性能。
公开/授权文献
- CN115283222A 一种用于激光微推力器的等离子体增强界面结合力双层工质靶带制备方法 公开/授权日:2022-11-04