- 专利标题: 微透镜阵列的制备方法,薄膜厚度监测方法、系统及装置
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申请号: CN202210073008.5申请日: 2022-01-21
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公开(公告)号: CN115308822B公开(公告)日: 2023-06-13
- 发明人: 解圳皓 , 秦明海 , 华露 , 陈雷华
- 申请人: 苏州东辉光学有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市工业园区唯亭葑亭大道439号
- 专利权人: 苏州东辉光学有限公司
- 当前专利权人: 苏州东辉光学有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市工业园区唯亭葑亭大道439号
- 代理机构: 苏州智品专利代理事务所
- 代理商 唐学青
- 主分类号: G02B3/00
- IPC分类号: G02B3/00 ; G01B11/06
摘要:
本申请公开一种微透镜阵列的制备方法,薄膜厚度监测系统及装置。该方法利用光谱共焦技术,使用梯度折射率微透镜阵列将入射光离散为一系列焦点,将待测膜层置于焦点处,反射的信号光再次经过梯度折射率微透镜阵列,信号光由分光元件进行色散处理后经成像透镜成像在面阵探测器上,面阵探测器接收待测膜层厚度的不同波段信号光,通过对信号光进行分析处理即可获知待测膜层平面度、均匀性、厚度信息。对于光学件进行膜层蒸镀时,降低膜层厚度实时监测难度,从而保证了测量精度能够满足要求。
公开/授权文献
- CN115308822A 微透镜阵列的制备方法,薄膜厚度监测方法、系统及装置 公开/授权日:2022-11-08