本发明涉及一种适用于黑匣子的镀膜防护工艺及其设备，包括工件架、真空除气及活化室、预处理室、沉积室等；除尘后的黑匣子组件放置在工件架上，传送辊道带动工件架定向移动；真空除气及活化室用于对黑匣子组件进行等离子清洗和表面活化处理；预处理室用于对活化后的黑匣子组件预蒸镀硅烷耦联合剂；沉积室用于对预蒸镀耦合剂后的黑匣子组件进行聚对二甲苯沉积镀膜，使黑匣子组件表面生成完全覆形、厚度均匀可控且透明的聚对二甲苯防护膜层，从而增强了存储器组件对防水防潮、防盐雾等恶劣特殊环境的抵抗能力，减少隔热材料内部的水气含量，增强隔热效果和表面的固化强度，避免掉粉，同时进一步保护壳体不被化学腐蚀和达到干燥封存的目的。