本发明公开了一种纳米制程集成电路清洗水的制备方法，方法中，对一次纯水进行深除盐处理，一次纯水经第一混合光解吸收器降解总有机碳并脱除弱离子化杂质，随后通过第一真空膜脱气装置脱去氧气形成二次纯水；对二次纯水进行抛光处理，二次纯水经过催化型混合光解吸收器将痕量金属离子、弱离子化杂质和低分子有机物分别脱除至ppq级、ppt级和ppb级，同时将自由基复合氧化剂控制在亚ppb级。制备方法不仅提高了清洗水超低分子有机物的降解效率，将解离常数小于10‑9的弱离子化杂质降除至1 ng/l以下，而且可有效淬灭光解次生氧化剂，将其浓度在POD端控制在1μg/l以内。