Invention Publication
- Patent Title: 一种三氯氢硅附除杂的方法及系统
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Application No.: CN202211480624.9Application Date: 2022-11-24
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Publication No.: CN115738382APublication Date: 2023-03-07
- Inventor: 张梦泽 , 范协诚 , 宋高杰 , 杨典 , 苏国良 , 张小军 , 夏进京
- Applicant: 新特能源股份有限公司 , 内蒙古新特硅材料有限公司
- Applicant Address: 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐国家级高新技术产业开发区(新市区)甘泉堡高新技术产业园;
- Assignee: 新特能源股份有限公司,内蒙古新特硅材料有限公司
- Current Assignee: 新特能源股份有限公司,内蒙古新特硅材料有限公司
- Current Assignee Address: 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐国家级高新技术产业开发区(新市区)甘泉堡高新技术产业园;
- Agency: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- Agent 邓伯英; 罗建民
- Main IPC: B01D15/26
- IPC: B01D15/26 ; B01J20/34
Abstract:
本发明公开一种三氯氢硅吸附除杂的方法，包括：将含有杂质的三氯氢硅液体通入到液固流化床中，并加入吸附剂，对所述三氯氢硅液体进行吸附除杂；将吸附杂质后的吸附剂排出到再生反应器进行再生处理；将再生后的吸附剂返回到所述液固流化床再次进行吸附除杂。本实发明还公开一种三氯氢硅吸附除杂的系统。本发明可对三氯氢硅除杂工艺进行优化，实现在线连续再生，大大提高吸附除杂效率。
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