发明公开
- 专利标题: 一种通过CVD载气周期性控制制备二维TaS2的方法
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申请号: CN202211352753.X申请日: 2022-11-01
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公开(公告)号: CN115838923A公开(公告)日: 2023-03-24
- 发明人: 杨培志 , 王涛 , 杨雯 , 葛文 , 孟广昊 , 冯小波
- 申请人: 云南师范大学
- 申请人地址: 云南省昆明市呈贡区雨花片区1号
- 专利权人: 云南师范大学
- 当前专利权人: 云南师范大学
- 当前专利权人地址: 云南省昆明市呈贡区雨花片区1号
- 代理机构: 西安研实知识产权代理事务所
- 代理商 罗磊
- 主分类号: C23C16/455
- IPC分类号: C23C16/455 ; C23C16/30 ; C23C16/52
摘要:
本发明涉及到二维材料的制备技术领域,提供了一种通过CVD载气周期性控制制备二维TaS2的方法,包括以下步骤:(1)采用五氯化钽和单质硫作为前驱体,通过在Ar气氛中研磨S和TaCl5,得到混合物,再放入前温区的石英舟内,同时衬底放置于后温区;(2)将步骤(1)完成后,先通过控制加热温度,让混合物气化,在周期性控制的载气Ar/H2流速的作用下运输到衬底处反应,沉积得到层数可控的2D TaS2;(3)将步骤(2)沉积所得的TaS2在稳定Ar/H2气流流速下保温,再降至室温后取出样品。该方法制备工艺简单,成本低,载气周期性脉冲可以简易的控制前驱体的输送量,使沉积的TaS2层数可控,在光电器件、传感器和储能器件等领域都具有广阔的应用前景。
IPC分类: