发明公开
CN115958545A 化学机械抛光垫及其制备
审中-实审
- 专利标题： 化学机械抛光垫及其制备
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申请号： CN202211243575.7申请日： 2022-10-11
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公开(公告)号： CN115958545A公开(公告)日： 2023-04-14
- 发明人: 钱百年 , R·M·布洛姆奎斯特 , L·M·艾尔-赛义德 , M·E·米尔斯 , K-A·雷迪 , B·K·泰勒 , S·夏
- 申请人： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 杜邦电子公司
- 申请人地址： 美国特拉华州;
- 专利权人： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司,杜邦电子公司
- 当前专利权人： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司,杜邦电子公司
- 当前专利权人地址： 美国特拉华州;
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 徐鑫; 陈哲锋
- 优先权： 17/500669 20211013 US
- 主分类号： B24D11/00
- IPC分类号： B24D11/00 ; B24B37/24
摘要：
本发明涉及一种具有抛光层的化学机械抛光垫。该抛光层含有挤出片材。该挤出片材通过挤出混配的可光聚合组合物然后暴露于UV光来制备。
