发明公开
- 专利标题： 一种加热装置及ALD设备
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申请号： CN202310189792.0申请日： 2023-03-01
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公开(公告)号： CN116043195A公开(公告)日： 2023-05-02
- 发明人: 万军 , 兰丽丽
- 申请人： 无锡邑文电子科技有限公司
- 申请人地址： 江苏省无锡市新吴区观山路1号
- 专利权人： 无锡邑文电子科技有限公司
- 当前专利权人： 无锡邑文电子科技有限公司
- 当前专利权人地址： 江苏省无锡市新吴区观山路1号
- 代理机构： 北京超凡宏宇专利代理事务所
- 代理商 黄燕
- 主分类号： C23C16/455
- IPC分类号： C23C16/455
摘要：
本发明的实施例提供了一种加热装置及ALD设备，涉及镀膜技术领域。该加热装置包括容置容器、反应腔以及加热组件。反应腔设置于容置容器内，反应腔用于镀膜，加热组件设置于容置容器内，并围绕于反应腔的所有外表面，以对反应腔的整体进行均匀地加热，提高加热效率，从而提升镀膜效率及镀膜质量。