本申请公开一种用于CVD设备的石墨加热器的控制方法。该控制方法包括如下步骤：PLC控制模块的第二运算单元基于接收的第一运算单元传输的第一限制参数并结合上位机下发的第二限制参数及温控仪的温度参数进行运算以得到控制信号，并传输至直流电源，直流电源接收并响应所述控制信号输出控制信号匹配的电压或电流至加热器。该方法针对CVD设备的反应腔中的托盘加热场合，可以提高温度控制精度，得到平滑可控的升降温曲线，提高片内温度均匀性，提高产品质量。