- 专利标题： 用于测量光刻设备的聚焦性能的方法、图案形成装置和设备、器件制造方法
-
申请号： CN202180060464.X申请日： 2021-07-06
-
公开(公告)号： CN116157743A公开(公告)日： 2023-05-23
- 发明人: 刘飞 , 廉晋 , 黄壮雄 , L·C·德温特 , 弗兰克·斯塔尔斯
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 毕杨
- 优先权： 20188032.5 20200728 EP
- 国际申请： PCT/EP2021/068589 2021.07.06
- 国际公布： WO2022/022949 EN 2022.02.03
- 进入国家日期： 2023-01-18
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
公开了一种用于光刻过程的焦距测量的方法。所述方法包括：接收衬底，已经通过光刻设备利用照射光瞳在所述衬底上印制量测图案；利用量测工具照射所述量测图案以基于由所述量测图案散射的辐射来测量信号；和基于所测量的信号来确定或监测所述光刻过程的焦距。所述量测图案的至少一部分的位置依赖于焦距。所述量测图案的至少一部分已经由所述光刻设备利用角向不对称的照射光瞳来印制。
IPC分类:
