发明公开
- 专利标题： 一种用于涂层石墨坩埚复用的涂层修复方法
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申请号： CN202211669134.3申请日： 2022-12-23
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公开(公告)号： CN116179993A公开(公告)日： 2023-05-30
- 发明人: 吴鑫祥 , 陈义武 , 周利华 , 华强 , 张会焱 , 王悦 , 王刚 , 杜昊
- 申请人： 中核四0四有限公司
- 申请人地址： 甘肃省嘉峪关市中核四0四办公楼1015室
- 专利权人： 中核四0四有限公司
- 当前专利权人： 中核四0四有限公司
- 当前专利权人地址： 甘肃省嘉峪关市中核四0四办公楼1015室
- 代理机构： 核工业专利中心
- 代理商 陈晓菲
- 主分类号： C23C4/134
- IPC分类号： C23C4/134 ; C23C4/18 ; C23C4/06
摘要：
本发明属于复合涂层制备技术领域，具体涉及一种用于涂层石墨坩埚复用的涂层修复方法。本发明将等离子体喷涂后的片层结构进行激光重熔，降低涂层表面的孔隙率，激光熔覆后的涂层面再经过真空热压，热压后的涂层内部的孔隙大大减少，同时涂层与基体、涂层与涂层间形成冶金结合，激光熔覆和真空热压对涂层均有致密化作用，能大大提高现有等离子体喷涂涂层的各项性能。
IPC分类:
